Технология радиационного легирования кремния

Цена договорная Производитель: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (НИ ТПУ)

Подробное описание

Исходным материалом для легирования служат, в основном, монокристаллы кремния, выращенные методом безтигельной зонной плавки. НТЛ кремний широко используется в мировой практике для создания таких приборов, в которых разброс удельного электрического сопротивления должен быть минимальным. НТЛ кремний широко используется в мировой практике для создания приборов с минимальным разбросом удельного электрического сопротивления: тирристоры, приборы с зарядовой связью, СБИСы, детекторы излучений, фотоприёмники.

Особенности технологии производства

Впервые на реакторе ИРТ-Т Томского политехнического университета создана технология нейтронного легирования (НЛ) слитков кремния (длиной до 75 см и диаметром до 12,8см).

Технические характеристики

Производительность легирования слитков кремния диаметром 127 мм на конечный номинал удельного электрического сопротивления 60 Ом/см — 6 000 кг/год.

Потребительские свойства

Основной показатель качества нейтронного легирования  

  • равномерность легирования не уступает лучшим мировым аналогам: радиальная неравномерность легирования меньше 3%
  • объёмная - меньше 5%.

Конкурентные преимущества

Технология нейтронного легирования кремния позволила достичь уникальной пространственной равномерности легирующего элемента (фосфора), которую невозможно получить другими методами.

Правовая защита технологических решений